[发明专利]真空成膜装置

摘要

本发明提供一种真空成膜装置。本发明的真空成膜装置具备：真空腔室；成膜辊，配置在真空腔室内，并且卷挂作为成膜对象的片状的基材；磁场产生部，设在成膜辊的内部，在该成膜辊的表面上形成磁场；磁场产生部具有内侧磁铁和外侧磁铁，所述内侧磁铁沿着成膜辊的轴向配置，所述外侧磁铁具有与内侧磁铁相反的极性，以环状包围内侧磁铁；内侧磁铁在从基材的成膜面观察的投影中，形成为与在成膜辊上卷挂着基材（W）的范围的宽度相比沿着成膜辊的轴向宽度较窄，并且配置在卷挂基材（W）的范围内。

主权项

一种真空成膜装置，具备：真空腔室；成膜辊，配置在该真空腔室内，并且卷挂作为成膜对象的片状的基材；磁场产生部，设在上述成膜辊的内部，在该成膜辊的表面上形成磁场；气体供给部，向上述真空腔室内供给原料气体；电源，产生用来使上述原料气体成为等离子的放电，其特征在于，上述磁场产生部具有内侧磁铁和外侧磁铁，所述内侧磁铁沿着上述成膜辊的轴向配置，所述外侧磁铁具有与上述内侧磁铁相反的极性，以环状包围上述内侧磁铁；上述内侧磁铁在从基材的成膜面观察的投影中，形成为与在上述成膜辊上卷挂着上述基材的范围的宽度相比沿着上述成膜辊的轴向宽度较窄，并且配置在卷挂上述基材的范围内。