[发明专利]具有减小的线条边缘粗糙度的蚀刻特征无效
| 申请号： | 201310020624.5 | 申请日： | 2006-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN103105744A | 公开（公告）日： | 2013-05-15 |
| 发明（设计）人： | S·M·列扎·萨贾迪;埃里克·A·赫德森 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40;H01L21/027;H01L21/033 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于在层中形成具有减小的线条边缘粗化的特征的方法。光刻胶层形成在该层上。图案化该光刻胶层以形成具有光刻胶侧壁的光刻胶特征。通过执行多个循环在该光刻胶特征侧壁上形成厚度小于100nm的侧壁层。每个循环包括在该光刻胶层上沉积层，其中该沉积层的厚度在单层到20nm。特征穿过该光刻胶特征蚀刻入该层。剥除该光刻胶层和侧壁层。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 减小 线条 边缘 粗糙 蚀刻 特征 | ||
【主权项】：
一种用于在层中形成具有减小的线条边缘粗化的特征的方法，其包括：在该层上形成光刻胶层；图案化该光刻胶层，以形成具有光刻胶侧壁的光刻胶特征；在该光刻胶特征侧壁上形成厚度小于100nm的侧壁层，其包括执行多个循环，其中每个循环包括在该光刻胶层上沉积层，其中该沉积层的厚度在单层到20nm之间；通过形成的侧壁层将特征蚀刻入该层以减小线条边缘的粗糙度；以及剥除该光刻胶层和侧壁层。
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