[发明专利]一种用于激光干涉光刻系统的光栅相位调制器

摘要

一种用于激光干涉光刻系统的光栅相位调制器，由基板、光栅、电机和光栅定位器组成。光栅、电机和光栅定位器均安装于基板上；光栅为圆形或矩形，采用透射或反射型光栅。光束入射至光栅上产生衍射，当电机带动光栅相对于入射光束连续运动时，光栅衍射光将发生频移而实现光束相位调制。该光栅相位调制器相比于在干涉光刻系统应用中的电光相位调制器、微电机驱动反射镜座的相位调制的具有相位调制速度快、调节精度高、调节范围宽等优点，相比在干涉光刻系统应用中的声光调制器，通过合理布置光学结构则不会影响系统精度、图形对比度、焦深、焦斑大小等，且系统光路简洁，最终实现干涉光刻系统整体性能的提升。

主权项

一种用于激光干涉光刻系统的光栅相位调制器，其特征在于：所述的光栅相位调制器为圆形光栅相位调制器（1），圆形光栅相位调制器（1）包括圆形基板（11）、环形光栅（12）、旋转电机（13）和光栅定位器（4）；环形光栅（12）沿圆周方向安装于圆形基板（11）上，且至少安装一条环形光栅；旋转电机（13）的输出轴与圆形基板（11）相连接，光栅定位器（4）安装于圆形基板（11）上。