[发明专利]平面亚波长非周期高对比度光栅及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201310002458.6 申请日: 2013-01-04
公开(公告)号: CN103048715A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 王永进;于庆龙;施政;贺树敏;高绪敏;陈佳佳 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;G03F7/00
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 许方
地址: 210003 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种平面亚波长非周期高对比度光栅,包括高折射率材料器件层,所述高折射率材料器件层的上表面为长方形,且所述高折射率材料器件层上分布有平行于长方形短边的光栅,所述光栅的相位分布满足方程φ(y)=k0(y2/2fy)。本发明所设计的平面亚波长非周期高对比度光栅不需要改变光栅的设计结构,就可以使光栅获得相应的聚焦能力。
搜索关键词: 平面 波长 周期 对比度 光栅 及其 制备 方法
【主权项】:
一种平面亚波长非周期高对比度光栅,其特征在于:包括从上到下依次设置有高折射率材料器件层、低折射率材料层和硅衬底层,所述高折射率材料器件层的上表面为长方形,所述高折射率材料器件层上分布有平行于长方形短边的光栅,所述光栅的相位分布满足方程φ(y)=k0(y2/2fy),其中,y轴定义为长方形的短边,x轴定义为长方形的长边,fy定义为xy平面上的焦距,φ(y)定义为相位分布,k0=2π/λ0,且k0定义为自由空间的波矢常量,所述低折射率材料层具有一个空腔。
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