[发明专利]薄膜晶体管、制造薄膜晶体管的方法、显示器和电子设备有效
申请号: | 201310002100.3 | 申请日: | 2013-01-04 |
公开(公告)号: | CN103208527B | 公开(公告)日: | 2017-05-24 |
发明(设计)人: | 岛山努;藤井宣年;藤森隆成 | 申请(专利权)人: | 株式会社日本有机雷特显示器 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L29/06;H01L21/336 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本公开提供薄膜晶体管、制造薄膜晶体管的方法、显示器和电子设备。薄膜晶体管包括栅极电极、源极电极和漏极电极;氧化物半导体层,设置在栅极电极的一侧,在该氧化物半导体层与该栅极电极之间具有绝缘膜,该氧化物半导体层设置在不面对源极电极和漏极电极的区域中,并且该氧化物半导体层电连接到源极电极和漏极电极;以及低电阻氧化物层,设置在面对源极电极的区域中以及面对漏极电极的区域中,该面对源极电极的区域和该面对漏极电极的区域相邻于氧化物半导体层,并且低电阻氧化物层的电阻率低于氧化物半导体层的电阻率。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 制造 方法 显示器 电子设备 | ||
【主权项】:
一种薄膜晶体管,包括:栅极电极、源极电极和漏极电极;氧化物半导体层,设置在该栅极电极的一侧,在该氧化物半导体层与该栅极电极之间具有绝缘膜,该氧化物半导体层设置在不面对该源极电极和该漏极电极的区域中,并且该氧化物半导体层电连接到该源极电极和该漏极电极;以及低电阻氧化物层,设置在面对该源极电极的区域中以及面对该漏极电极的区域中且相邻于该氧化物半导体层,该低电阻氧化物层的电阻率低于该氧化物半导体层的电阻率,该氧化物半导体层和该低电阻氧化物层设置在该栅极电极上,在该氧化物半导体层和该低电阻氧化物层与该栅极电极之间具有该绝缘膜,并且该源极电极和该漏极电极设置在该低电阻氧化物层上,该绝缘膜具有位于配线层上的过孔,该配线层与该栅极电极设置在相同的层中,并且该低电阻氧化物层的一部分覆盖该过孔的内侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日本有机雷特显示器,未经株式会社日本有机雷特显示器许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310002100.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种喷距可调的桁架喷头车
- 下一篇:用于运行助力转向装置的方法
- 同类专利
- 专利分类