[发明专利]空间光调制器的驱动方法、曝光用图案的生成方法、以及曝光方法和装置有效
申请号: | 201280071531.9 | 申请日: | 2012-12-26 |
公开(公告)号: | CN104170054B | 公开(公告)日: | 2018-11-02 |
发明(设计)人: | 大和壮一;渡边阳司 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G02B26/08;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈伟;金杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在空间光调制器的驱动方法中,在Y方向上邻接配置并沿X方向延伸的第一边界区域以及第二边界区域中,将在第一边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第一间距排列的镜元件设定为相位0,将其他的镜元件设定为相位π,将在第二边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第二间距排列的镜元件设定为相位π,将其他的镜元件设定为相位0。使用空间光调制器向物体投影图案时,能够以比空间光调制器的各光学元件的像的宽度更精细的位置精度或者形状精度形成图案。 | ||
搜索关键词: | 空间 调制器 驱动 方法 曝光 图案 生成 以及 装置 | ||
【主权项】:
1.一种空间光调制器的驱动方法,所述空间光调制器具有能够分别将光向投影光学系统引导的多个光学元件的阵列,所述驱动方法的特征在于,在第一方向上邻接配置并且分别在与所述第一方向交叉的第二方向延伸的第一区域以及第二区域中,将在所述第一区域内在所述第二方向上以不被所述投影光学系统析像的第一间距排列的多个所述光学元件设定为第一状态,将所述第一区域内的其他所述光学元件设定为与所述第一状态不同的第二状态,将在所述第二区域内在所述第二方向上以不被所述投影光学系统析像的第二间距排列的多个所述光学元件设定为所述第二状态,将所述第二区域内的其他所述光学元件设定为所述第一状态。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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