[发明专利]用于基底表面金属化的粘合促进剂有效
申请号: | 201280068380.1 | 申请日: | 2012-12-05 |
公开(公告)号: | CN104302809B | 公开(公告)日: | 2017-07-21 |
发明(设计)人: | 托马斯·托马斯;卢茨·布兰特;卢茨·斯坦普;汉斯-于尔根·施莱尔 | 申请(专利权)人: | 埃托特克德国有限公司 |
主分类号: | C23C18/16 | 分类号: | C23C18/16;C23C18/18;C23C18/20;C25D5/54;C23C18/12;H05K3/38;B82Y30/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 | 代理人: | 郭国清,穆德骏 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种对基底进行金属化的方法,所述方法提供沉积金属与所述基底材料的高粘附力并由此形成耐久性粘结。所述方法在金属化之前施加包含纳米级粒子的新型粘合促进剂。所述粒子具有至少一种带有适用于结合到所述基底的化学官能团的连接基团。 | ||
搜索关键词: | 用于 基底 表面 金属化 新型 粘合 促进剂 | ||
【主权项】:
将金属镀层到基底上的方法,其包括如下步骤:i.使所述基底与包含纳米级粒子的溶液接触,其中所述纳米级粒子在其外表面上包含反应性氧基团,所述纳米级粒子具有至少一种带有适用于结合到所述基底的化学官能团的连接基团,由此在所述基底表面的至少一部分上形成所述纳米级粒子的层,其中所述纳米级粒子中的材料选自无机氧化物和有机聚合物;和其后ii.应用湿化学镀层法对所述基底进行金属镀层,和其中所述纳米级粒子的层保留在所述基底表面与镀层金属之间,和其中所述至少一种连接基团具有通式(I):–B–L–FG (I),其中B为结合基团,L为连结基团且FG为化学官能团,其中所述化学官能团FG代表氨基、羰基、羧基、酯、环氧基、巯基、羟基、丙烯酸、甲基丙烯酸、酐、酰卤、卤素、烯丙基、乙烯基、苯乙烯、芳基、炔、叠氮化物、脲基;含1至3个氮原子的5元至6元杂环烃基团;异烟酰胺基、联吡啶基、腈、异腈和硫氰酸酯,和其中所述结合基团B代表(1)–Si(R1R2)–,其中R1和R2相互独立地代表具有1至12个碳原子的烷氧基基团、具有1至12个碳原子的烷基基团、卤素原子和键合到源自所述纳米级粒子和/或另外的连接基团的氧原子的键;或(2)–CH2–R3–、–CO–NH–、–CO–O–、未取代或取代的芳基,其中R3代表–CHOH–CH2–O–、–CHOH–CH2–;具有1至5个碳原子的线性的未取代或取代的烃基团,其中所述连结基团L代表具有1至20个碳原子的线性的未取代或取代的烃基团;具有3至8个碳原子的环状的未取代或取代的烃基团;被一个或多个氧原子和/或氨基基团间断的线性或环状的烃基团;具有一个或多个双键或三键的线性或环状的烃基团;未取代或取代的芳基基团或杂芳基基团、膦酸酯和联吡啶基。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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