[发明专利]制造内含层的方法和材料以及由其制成的器件在审
| 申请号： | 201280062189.6 | 申请日： | 2012-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN104011895A | 公开（公告）日： | 2014-08-27 |
| 发明（设计）人： | A·费尼莫尔;S·R·麦凯拉 | 申请（专利权）人： | E.I.内穆尔杜邦公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L51/52;H01L51/54 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 江磊 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了用于在第一层之上形成内含的第二层的方法，所述方法包括以下步骤：形成包含氟化材料并具有第一表面能的第一层；用底涂层处理所述第一层；使所述底涂层以图案形式暴露于具有大于300nm波长的辐射下，获得暴露区域和未暴露区域；使所述底涂层显影以有效地从所述未暴露区域移除所述底涂层，获得具有图案化底涂层的第一层，其中所述图案化底涂层具有比所述第一表面能高的第二表面能；以及通过在所述第一层上的图案化底涂层上的液相沉积来形成所述第二层。所述底涂层包含芳族胺化合物和光引发剂。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 内含 方法 材料 以及 制成 器件 | ||
【主权项】：
一种用于在第一层之上形成内含的第二层的方法，所述方法包括：形成包含氟化材料并具有第一表面能的所述第一层；用基本上由芳族胺化合物和光引发剂组成的底涂层处理所述第一层；使所述底涂层以图案形式暴露于具有大于300nm波长的辐射下，获得暴露区域和未暴露区域；使所述底涂层显影以有效地从所述未暴露区域移除所述底涂层，获得具有图案化底涂层的第一层，其中所述图案化底涂层具有比所述第一表面能高的第二表面能；以及通过在所述第一层上的图案化底涂层上的液相沉积来形成所述第二层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
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