[发明专利]溅镀装置有效
| 申请号： | 201280061998.5 | 申请日： | 2012-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN103998645A | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 石村彻;安松保志;冈本直之 | 申请（专利权）人： | 佳能安内华股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 吕林红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种溅镀装置，其具备以阴极主体与阴极磁铁成为相同电位的方式施加电力的电力施加装置，施加在阴极磁铁上的电力，经配置在了安装在阴极磁铁上的磁铁旋转轴与阴极主体之间的花键供给。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
一种溅镀装置，其特征在于，具备阴极主体、阴极磁铁、磁铁驱动装置和电力施加装置，该阴极主体，能配置靶；该阴极磁铁，在配置在了前述阴极主体上的前述靶的表面上产生磁场；该磁铁驱动装置，使前述阴极磁铁旋转，并且使其相对于前述阴极主体接近或离开；该电力施加装置，以前述阴极主体和前述阴极磁铁成为相同电位的方式施加电力；前述磁铁驱动装置具有磁铁支承部和滑动支承组件，该磁铁支承部与前述阴极磁铁连结，该滑动支承组件对前述磁铁支承部以在相对于前述阴极主体接近或离开的方向能够移动的方式进行支承；前述电力施加装置，经前述滑动支承组件向前述阴极磁铁供给电力。
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