[发明专利]溅镀装置有效
| 申请号： | 201280061998.5 | 申请日： | 2012-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN103998645A | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 石村彻;安松保志;冈本直之 | 申请（专利权）人： | 佳能安内华股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 吕林红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
1.一种溅镀装置，其特征在于，具备阴极主体、阴极磁铁、磁铁驱动装置和电力施加装置，
该阴极主体，能配置靶；
该阴极磁铁，在配置在了前述阴极主体上的前述靶的表面上产生磁场；
该磁铁驱动装置，使前述阴极磁铁旋转，并且使其相对于前述阴极主体接近或离开；
该电力施加装置，以前述阴极主体和前述阴极磁铁成为相同电位的方式施加电力；
前述磁铁驱动装置具有磁铁支承部和滑动支承组件，该磁铁支承部与前述阴极磁铁连结，该滑动支承组件对前述磁铁支承部以在相对于前述阴极主体接近或离开的方向能够移动的方式进行支承；
前述电力施加装置，经前述滑动支承组件向前述阴极磁铁供给电力。
2.根据权利要求1所述的溅镀装置，其特征在于，
前述磁铁支承部，是与前述阴极磁铁一起旋转的磁铁旋转轴；
前述磁铁旋转轴，在相对于前述阴极主体接近或离开的方向移动；
前述滑动支承组件，被配置在前述阴极主体与前述磁铁旋转轴之间。
3.根据权利要求1所述的溅镀装置，其特征在于，
前述磁铁支承部，具有与前述阴极磁铁连结了的磁铁支承轴；向前述磁铁支承轴传递旋转力的磁铁旋转轴；和经轴承与前述磁铁支承轴连结，在相对于前述阴极主体接近或离开的方向使磁铁支承轴移动的移动构件，
前述滑动支承组件，具备被配置在前述阴极主体与前述移动构件之间的外花键和被配置在前述磁铁旋转轴与前述磁铁支承轴之间的内花键；
前述电力施加装置，经前述外花键及前述内花键向前述阴极磁铁供给电力。
4.根据权利要求3所述的溅镀装置，其特征在于，
前述磁铁支承轴及前述移动构件都是管状的构件；
前述磁铁旋转轴，与前述磁铁支承轴及前述移动构件同轴地配置。
5.根据权利要求1所述的溅镀装置，其特征在于，
前述磁铁支承部，具有与前述阴极磁铁连结并且在相对于前述阴极主体接近或离开的方向移动的移动构件；和向前述移动构件传递旋转力的磁铁旋转轴；
前述滑动支承组件，具备被配置在前述阴极主体与前述移动构件之间的外花键和被配置在前述移动构件与前述磁铁旋转轴之间的内花键；前述电力施加装置，经前述外花键向前述阴极磁铁供给电力。
6.根据权利要求5所述的溅镀装置，其特征在于，
前述移动构件是管状的构件；
前述磁铁旋转轴，与前述移动构件同轴地配置。
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