[发明专利]溅镀装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种溅镀装置。特别是涉及能对靶与磁铁的距离进行调节的溅镀装置。

背景技术

在为了对成膜过程进行控制而可以使靶与磁铁的距离改变的阴极中，当导入高频时，磁铁和阴极主体为了防止在这些构件之间的异常放电希望做成相同电位。

在能调节靶与阴极磁铁的距离(TM距离)的溅镀装置(例如，参照专利文献1)中，将磁铁和阴极(主体)通过由具有柔软性的薄板(铜板)电气性地连接做成相同电位。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2001-081554号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，在磁铁每次动时薄板都动的构造中，需要配置薄板的绝缘空间。另外，因为薄板的重复的动，存在紧固连结了薄板的螺钉松弛的担心。进而，因为通过由铜板的形状变化产生的电阻变化，通电状态变化，存在电阻变动的危险，所以需要定期地更换。

本发明是鉴于上述课题做成的发明，其目的在于提供一种维护容易、能改变电气性地稳定的磁铁与靶的距离的溅镀装置。

为了解决课题的手段

本发明的溅镀装置，其特征在于，具备阴极主体、阴极磁铁、磁铁驱动装置和电力施加装置，该阴极主体，能配置靶；该阴极磁铁，在配置在了前述阴极主体上的前述靶的表面上产生磁场；该磁铁驱动装置，使前述阴极磁铁旋转，并且使其相对于前述阴极主体接近或离开；该电力施加装置，以前述阴极主体和前述阴极磁铁成为相同电位的方式施加电力；前述磁铁驱动装置具有磁铁支承部和滑动支承组件，该磁铁支承部与前述阴极磁铁连结，该滑动支承组件对前述磁铁支承部以在相对于前述阴极主体接近或离开的方向能够移动的方式进行支承；前述电力施加装置，经前述滑动支承组件向前述阴极磁铁供给电力。

发明的效果

因为经花键将磁铁和阴极主体通电，所以能提供一种可靠性高、维护容易的溅镀装置。

本发明的其它的特征及优点，将根据参照了附图的以下的说明变得明确。另外，在附图中，对相同或同样的结构，标注相同参照符号。

附图说明

附图包含在说明书中，构成其一部分，表示本发明的实施方式，与其记述一起用于说明本发明的原理。

图1是本发明的第1实施方式的溅镀装置的概略图。

图2A是表示图1的A-A剖面的图。

图2B是表示图1的B-B剖面的图。

图3是本发明的第2实施方式的溅镀装置的概略图。

图4是图4的花键轴部分的放大图。

图5是本发明的第3实施方式的溅镀装置的概略图。

图6是图6的花键轴部分的放大图。

具体实施方式

为了实施发明的方式

以下，基于附图对本发明的优选的实施方式进行说明。以下说明的构件、配置等是将发明具体化了的一例，不对本发明进行限定，当然根据本发明的宗旨能进行各种改变。

(第1实施方式)

基于图1～图3对本发明的第1实施方式的溅镀装置进行说明。图1所示的溅镀装置1，是将阴极装置5安装在能对内部进行真空排气的真空容器10上而构成。在真空容器10内，配置了能对基板W进行保持的基板保持架14，安装在了阴极装置5上的靶16与保持在了基板保持架14上的基板W相向。靶16安装在阴极主体21上，在阴极主体21的里侧配置了在靶16的表面产生磁场(磁力)的阴极磁铁23。

阴极主体21作为真空隔壁发挥功能，并且能将靶16安装在与基板保持架14相向的位置。阴极装置5能相对于经绝缘体25设置在了真空容器10的上部的阴极主体21对阴极磁铁23的上下方向的位置进行调整。另外，磁铁23具有安装在了磁铁旋转轴31(磁铁支承部)上的磁轭和设置在了磁轭的靶侧的永久磁铁。另外，下部壳体34是构成阴极主体21的构件之一。

对阴极装置5的结构进行说明。阴极装置5，具备使阴极磁铁23一面旋转一面向上下方向(接近或离开靶16的方向)移动的磁铁驱动装置，和向阴极磁铁23和阴极主体21供给电力并施加相同电位的电力施加装置。