[发明专利]可显影的底部抗反射涂层形成用组合物

摘要

本发明提供了一种底部抗反射涂层形成用组合物，并且还提供了一种采用所述组合物的光致抗蚀剂图案形成方法。所述组合物提供了在制造半导体器件的光刻工艺中使用的底部抗反射涂层，并且所述涂层可以使用光致抗蚀剂用显影液进行显影。所述组合物含有溶剂、具有稠合多环芳香族基团的聚合物以及具有马来酰亚胺衍生物或马来酸酐衍生物的化合物。所述组合物可以进一步含有光酸产生剂或交联剂。

主权项

一种底部抗反射涂层形成用组合物，其包含：溶剂；由下式(1)表示的聚合物：‑Am‑Bn‑   (1)其中A和B分别是由下式(A)和(B)表示的重复单元：其中每个R11和R12独立地为氢或烷基；L11是单键、COO或含有一个或多个碳原子的直链或支链亚烷基；Y是含有两个或更多个苯环的稠合多环芳香族基团，其中，苯环中的一个被奎宁环所替换，并且该稠合多环芳香族基团可以任选地具有从由烷基、芳基、卤素、烷氧基、硝基、醛、氰基、酰胺基、二烷基氨基、磺酰胺基、酰亚胺基、羧基、羧酸酯、磺基、磺酸酯、烷基氨基和芳基氨基构成的组中选出的取代基；且Z是从由R3COOR4和R3OR4构成的组中选出的基团，其中R3是单键、氧或者可以具有氟原子且具有一个或多个碳原子的直链或支链亚烷基，R4为氢或者取代或未取代的烃基；每个m和n是表示聚合度的数字，m不小于10且n不小于0；和由下式(3)表示的化合物：其中每个R31～R36是独立地从由氢、烷基、芳基、卤素、烷氧基、硝基、醛、氰基、酰胺基、二烷基氨基、磺酰胺基、酰亚胺基、羧酸、羧酸酯、磺酸、磺酸酯、烷基氨基和芳基氨基构成的组中选出的基团；且L31是亚烷基或亚芳基；并且该组合物进一步包含光酸产生剂。