[发明专利]形成具有稳定金属氧化物层的光电器件的方法有效
申请号: | 201280061695.3 | 申请日: | 2012-12-07 |
公开(公告)号: | CN103998388B | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | A·M·马勒克;T·R·布赖登;P·C·勒巴隆 | 申请(专利权)人: | 陶氏环球技术有限责任公司 |
主分类号: | C03C17/245 | 分类号: | C03C17/245;C03C17/34 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 吴亦华 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明是一种方法,所述方法包括沉积金属氧化物层作为生产光电有源器件的一部分,并将所述金属氧化物层暴露于反应剂以形成相对疏水性表面。本发明还包括如此制造的器件,优选光伏器件,其与没有进行所述处理的器件相比,显示出改进的稳定性。 | ||
搜索关键词: | 形成 具有 稳定 金属 氧化物 光电 器件 方法 | ||
【主权项】:
一种形成具有稳定金属氧化物层的光电有源器件的方法,所述方法包括提供具有背面电极和至少一个光电活性层的结构以及将金属氧化物沉积到所述至少一个光电活性层上作为生产光电有源器件的一部分,并将所述金属氧化物暴露于与所述金属氧化物反应的反应剂以形成相对疏水性表面,其中所述金属氧化物是Zn、In、Cd、Sn的氧化物、铝掺杂氧化锌或这些的组合,以及其中所述反应剂是硫化氢、硒化氢或者硫或硒的挥发性有机化合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陶氏环球技术有限责任公司,未经陶氏环球技术有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201280061695.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。