[发明专利]偏振膜的制造方法有效
| 申请号： | 201280042812.1 | 申请日： | 2012-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN103765259A | 公开（公告）日： | 2014-04-30 |
| 发明（设计）人： | 矢仙姆尼里汀;尾込大介;济木雄二 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的偏振膜的制造方法，其特征在于，对聚乙烯醇系膜至少实施溶胀处理、染色处理、交联处理、拉伸处理及洗涤处理，所述交联处理后的至少一个处理中，以满足下式（1）的方式使处理液含有水溶性抗氧化剂。0.0005≤A×B≤0.03（1）〔式中，A为处理浴中的水溶性抗氧化剂的浓度（mol/L），B为将碘还原为碘离子的水溶性抗氧化剂的还原力。〕根据本发明的制造方法，可以提供高对比度、且能够防止短波长区域中的漏光的产生的偏振特性优异的偏振膜。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种偏振膜的制造方法，其对聚乙烯醇系膜至少实施溶胀处理、染色处理、交联处理、拉伸处理及洗涤处理，其特征在于，在所述染色处理后的至少一个处理中，以满足下式（1）的方式使处理液含有水溶性抗氧化剂，0.0005≤A×B≤0.03 （1），上式中，A为处理浴中的水溶性抗氧化剂的浓度（mol/L），B为将碘还原为碘离子的水溶性抗氧化剂的还原力。
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