[发明专利]包含薄底漆膜的结构体和制备所述结构体的方法有效
| 申请号： | 201280038856.7 | 申请日： | 2012-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN103717403A | 公开（公告）日： | 2014-04-09 |
| 发明（设计）人： | 涩泽邦彦 | 申请（专利权）人： | 太阳化学工业株式会社 |
| 主分类号： | B41N1/24 | 分类号： | B41N1/24;C23C14/34;C23C16/42 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李新红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | [课题]本发明提供一种结构体，其包括已经通过干法形成的并且牢固地与氟化硅烷偶联剂结合的薄底漆膜。[解决手段]根据本发明的一个实施方案的这种结构体包含基材和在基材表面上通过干法形成的薄底漆膜，该薄底漆膜包含选自由硅、钛、铝、氧化铝和锆组成的组中的至少一种物质。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 底漆 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种结构体，所述结构体包含：基材；和薄底漆膜，所述薄底漆膜含有选自由硅、钛、铝、氧化铝和锆组成的组中的至少一种物质，并且通过干法形成在所述基材的部分或整个表面上。
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