[发明专利]喷墨用二氧化硅系被膜形成组合物、二氧化硅系被膜的形成方法、半导体设备及太阳能电池系统

摘要

本发明涉及一种喷墨用二氧化硅系被膜形成组合物，其含有硅化合物、溶剂和表面调节剂，溶剂含有γ-丁内酯、沸点为80～100℃的第二溶剂以及沸点为180～230℃的第三溶剂，相对于溶剂的总质量，所述γ-丁内酯的质量比为0.2以上，相对于溶剂的总质量，第二溶剂的质量比为0.2～0.5。

主权项

一种喷墨用二氧化硅系被膜形成组合物，其特征在于，其含有硅化合物、溶剂和表面调节剂，所述硅化合物为将如下单体成分水解、缩聚而得到的硅化合物，所述单体成分含有：通式（I）：PhSiX3所表示的化合物，式中，Ph表示也可具有取代基的苯基，X表示水解性基团，多个存在的X可以相同也可不同，通式（II）：R1nSiX4‑n所表示的化合物，式中，R1表示碳原子数1～20的烷基，X表示水解性基团，n表示0或1的整数，多个存在的X可以相同也可不同，以及通式（III）：R22SiX2所表示的化合物，式中，R2表示碳原子数1～20的有机基团，X表示水解性基团，多个存在的R2以及X各自可以相同也可不同；所述溶剂含有γ‑丁内酯、沸点为80～100℃的第二溶剂以及沸点为180～230℃的第三溶剂，相对于所述溶剂的总质量，所述γ‑丁内酯的质量比为0.2以上，相对于所述溶剂的总质量，所述第二溶剂的质量比为0.2～0.5。