[发明专利]光学设备用遮光材料有效
| 申请号： | 201280015556.7 | 申请日： | 2012-02-29 |
| 公开（公告）号： | CN103460080A | 公开（公告）日： | 2013-12-18 |
| 发明（设计）人： | 丰岛靖麿;大久保贵志 | 申请（专利权）人： | 木本股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G03B9/02;G03B9/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供具有保持遮光膜的必要物性、并且低光泽度区域宽的遮光膜的光学设备用遮光材料。其为在基材(2)上具有遮光膜(4)的光学设备用遮光材料(1)，遮光膜(4)的表面性状按照满足A1及A2中的至少任一者、和B1及B2中的至少任一者的方式进行调整。A1是三维表面粗糙度测定中的算术平均粗糙度Sa达到0.4以上且2.0以下的条件，A2是三维表面粗糙度测定中的十点平均粗糙度Sz达到1以上且20以下的条件，B1是以三维表面粗糙度测定中的中心平面作为基准面，设从该基准面突出于位于Sa的n倍的高度位置的平面的突起数为Pn，设突出于位于Sa的(n+1)倍的高度位置的平面的突起数为Pn+1，设Pn与Pn+1的比(Pn+1/Pn)为Rn时(其中，n均为正的整数。)，R1达到55％以上、且R4达到7％以上的条件，B2是R1达到55％以上、R2达到15％以上、及R3达到8％以上的条件。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 备用 遮光 材料 | ||
【主权项】：
一种光学设备用遮光材料，其是具有遮光膜的光学设备用遮光材料，其中，所述遮光膜按照满足下述条件A1及条件A2中的至少任一者、和下述条件B1及条件B2中的至少任一者的方式调整表面性状，条件A1：设三维表面粗糙度测定中的算术平均粗糙度为Sa时，Sa的值达到0.4以上且2.0以下的条件，条件A2：设三维表面粗糙度测定中的十点平均粗糙度为Sz时，Sz的值达到1以上且20以下的条件，条件B1：以三维表面粗糙度测定中的凹凸的中心平面为基准面，设从该基准面突出于位于Sa的n倍的高度位置的平面的突起数为Pn，设突出于位于Sa的(n+1)倍的高度位置的平面的突起数为Pn+1，设Pn与Pn+1的比(Pn+1/Pn)为Rn时，R1达到55％以上、且R4达到7％以上的条件，其中，n均为正的整数，条件B2：与条件B1相同地设定Pn、Pn+1、Rn时，至少R1达到55％以上、R2达到15％以上、及R3达到8％以上的条件。
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