[发明专利]光学设备用遮光材料

说明书

技术领域

本发明涉及可以适当用于各种光学设备的遮光部件、特别是具备完全消光性能的遮光材料。

背景技术

作为光学设备的以快门或光圈等为代表的遮光部件中使用的遮光材料，已知有在由合成树脂构成的薄膜基材上设置含有有机填料的遮光膜的遮光薄膜(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平7-319004

发明内容

发明所要解决的问题

专利文献1中公开的遮光薄膜的遮光膜由于其表面仅由小的凹凸形成，所以遮光膜的消光性不完全。具体而言，虽然相对于遮光膜的膜面以几乎接近垂直方向的角度入射的光的反射受到抑制，但是以接近平面方向的角度入射的光发生反射。该反射在光学设备内成为称为重影的不良情况，成为导致产品性能的降低的原因。这样，专利文献1的技术不能吸收以所有角度入射的光。

另外，为了维持作为遮光材料的产品性能，除了相对于以所有角度的入射光的低光泽性以外，还必须同时满足遮光性。

本发明的一方面提供一种光学设备用遮光材料，其具有保持遮光性等遮光膜的必要物性、并且得到低光泽度的入射角度的区域(以下，低光泽度区域)宽的遮光膜。

用于解决问题的方法

本发明者们对规定遮光膜的表面性状的各种要素进行了反复研究。其结果发现，在遮光膜的任意位置的规定区域中，通过适当地调整三维表面粗糙度测定中的几个参数的值，不但对于相对于遮光膜的膜面以几乎接近垂直方向的角度(例如20度)、或60度入射的光，就连对于以接近平面方向的角度(例如85度)入射的光，也能够可靠地抑制相对于该入射光的反射光，能够扩大低光泽度区域的宽度。

即本发明所述的光学设备用遮光材料的特征在于，其是具有遮光膜的光学设备用遮光材料，其中，遮光膜按照满足条件A1及条件A2中的至少任一者、和条件B1及条件B2中的至少任一者的方式调整表面性状。

条件A1：设三维表面粗糙度测定中的算术平均粗糙度为Sa时，Sa的值达到0.4以上且2.0以下的条件，

条件A2：设三维表面粗糙度测定中的十点平均粗糙度为Sz时，Sz的值达到1以上且20以下的条件，

条件B1：以三维表面粗糙度测定中的凹凸的中心平面为基准面，设从该基准面突出于位于Sa的n倍的高度位置的平面的突起数为Pn，设突出于位于Sa的(n+1)倍的高度位置的平面的突起数为P_n+1，设Pn与P_n+1的比(P_n+1/Pn)为Rn时(其中，n均为正的整数。)，R1达到55％以上、且R4达到7％以上的条件，

条件B2：与条件B1相同地设定Pn、P_n+1、Rn时，至少R1达到55％以上、R2达到15％以上、及R3达到8％以上的条件。

本发明所述的光学设备用遮光材料优选条件B2进一步包含R4达到7％以上的条件。

本发明所述的光学设备用遮光材料一般是在基材上层叠遮光膜而构成的。此时，遮光膜至少含有粘合剂树脂、黑色微粒及消光剂而构成。但是，本发明中并不限定于这样的层叠结构的构成方式，例如，也可以考虑使用模具使含有黑色微粒的树脂混合物赋型固化而成的成型物的方式。

发明的效果

根据本发明所述的光学设备用遮光材料，由于遮光膜的表面性状被适当地调整，所以对该遮光膜赋予了低光泽度区域宽的完全的消光效果(例如后述的G20、G60及G85均低)。此外，由于遮光膜含有粘合剂树脂和黑色微粒，所以保持了遮光性等必要物性。

另外，如上所述，专利文献1中公开的遮光薄膜的遮光膜由于其表面仅以小的凹凸形成，其结果是，表面性状没有被适当地控制，所以无法发挥完全的消光效果。

附图说明

图1是表示本发明的一实施方式所述的光学设备用遮光材料的遮光膜的局部剖面立体图。

图2是从略上方(遮光膜侧)观察图1的遮光材料的平面图。

图3是将图1的遮光材料在任意位置沿厚度方向剖断时，其剖断部位的剖面影像图。

符号的说明

1…光学设备用遮光材料

2…基材

4…遮光膜。

具体实施方式

以下，基于附图对本发明的一实施方式进行说明。