[发明专利]二极管,使用二极管的电路及制造方法有效
申请号: | 201280014534.9 | 申请日: | 2012-03-30 |
公开(公告)号: | CN103430292B | 公开(公告)日: | 2017-12-26 |
发明(设计)人: | 礼萨·贾利利塞纳里;尤金·R·沃利;埃文·希安苏里;斯雷克尔·敦迪盖尔 | 申请(专利权)人: | 高通股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/329 | 分类号: | H01L21/329;H01L29/861;H01L29/739;H01L21/33 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 | 代理人: | 宋献涛 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供包括门控二极管及浅沟槽隔离STI二极管的二极管、制造方法及有关电路,其无至少一个晕圈或口袋植入,借此减小所述二极管的电容。以此方式,所述二极管可用于具有对负载电容敏感的性能的电路及其它装置中,同时仍获得所述二极管的性能特性。门控二极管的这些特性包括快速接通时间及高传导性,从而使得所述门控二极管很好地适合于作为一个实例的静电放电ESD保护电路。二极管包括半导体衬底,所述半导体衬底具有井区域及所述井区域上的绝缘层。栅电极形成于所述绝缘层上。阳极区域及阴极区域提供于所述井区域中。形成P‑N结。在所述二极管中阻挡至少一个口袋植入以减小电容。 | ||
搜索关键词: | 二极管 使用 电路 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种二极管,其包含:衬底;通过第一掺杂剂掺杂的第一掺杂区域,所述第一掺杂区域具有与所述衬底相反的极性,所述第一掺杂区域位于所述衬底中,所述第一掺杂区域不具有口袋植入以便减小区结电容;在所述衬底中的口袋植入,所述口袋植入通过具有与所述第一掺杂剂相同极性的掺杂剂掺杂;及在所述口袋植入中的通过第二掺杂剂掺杂的第二掺杂区域,所述第二掺杂剂具有与所述第一掺杂剂的极性相反的极性,所述衬底的一部分使所述第一掺杂区域和所述口袋植入分离。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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