[发明专利]薄膜的制造方法和制造装置无效
| 申请号： | 201280009160.1 | 申请日： | 2012-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN103392025A | 公开（公告）日： | 2013-11-13 |
| 发明（设计）人： | 本田和义;冈崎祯之;末次大辅 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;H01M4/1395 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;杨光军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种薄膜的制造装置（100A），具备真空槽（22）、成膜源（9）（蒸发源）、输送系统（40）和涂布机（11）。成膜源（9）是为在真空槽（22）内的成膜区域（31）在基板（21）的第1主面上形成薄膜而使用的。输送系统（40）承担下述作用：沿着输送路径将基板（21）从卷出辊（23）（送出位置）向卷绕辊（26）（回收位置）输送，所述输送路径被设定为基板（21）在成膜区域（31）通过。利用涂布机（11）对基板（21）的第2主面赋予基板冷却材料（10），所述基板冷却材料（10）能够利用在形成薄膜时对基板（21）施加的热而蒸发。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 制造 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种薄膜的制造方法，包括：在真空中在基板的第1主面上形成薄膜的工序；和在所述薄膜形成工序之前，对所述基板的第2主面赋予基板冷却材料的工序，所述基板冷却材料能够利用在形成所述薄膜时对所述基板施加的热而蒸发。
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