[实用新型]一种石英支架有效
| 申请号： | 201220655546.7 | 申请日： | 2012-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN203013693U | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 李洋 | 申请（专利权）人： | 茂迪（苏州）新能源有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/673 | 分类号： | H01L21/673 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 215300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种石英支架，至少包括：间隔置于第一平面上的第一侧板及第二侧板；连接于所述第一侧板及第二侧板之间的至少两个相互平行的横杆，且各该横杆与所述第一平面呈预设角度倾斜。具有以下有益效果：本实用新型将承载石英晶舟的石英支架倾斜一预设角度，使炉管内化学气体入气口及出气口的硅基片更靠近化学气体浓度均匀的区域，提升硅基片的薄层电阻均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 石英 支架 | ||
【主权项】：
一种石英支架，其特征在于，至少包括：间隔置于第一平面上的第一侧板及第二侧板；连接于所述第一侧板及第二侧板之间的至少两个相互平行的横杆，且各该横杆与所述第一平面呈预设角度倾斜。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
