[实用新型]利用反射泰铂效应成像的微结构放大装置有效
申请号: | 201220424419.6 | 申请日: | 2012-08-26 |
公开(公告)号: | CN203037932U | 公开(公告)日: | 2013-07-03 |
发明(设计)人: | 黄伟其 | 申请(专利权)人: | 贵州大学 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;G01N21/47 |
代理公司: | 贵阳中新专利商标事务所 52100 | 代理人: | 李亮;程新敏 |
地址: | 550025 贵州省贵*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种利用反射泰铂效应成像的微结构放大装置,包括光源(1),在光源(1)的射出光路上设有汇聚透镜(2),在汇聚透镜(2)的射出光路上设有可相互切换的定标光路及放大光路,在光路修整结构的射出光路上设有样品放置台(6),在反射光路上设有反射泰铂成像屏(7)。本实用新型采用激光作为光源,通过光路修整激光的波形后,对不透明的周期结构样品进行照射,使照射后产生反射自成像。本实用新型可应用于各种激光微加工结构的观察与控制系统中,特别是在硅基上的光子晶体与波导的光子制备中,它能对真空腔中的样品实现在线的反射泰铂成像放大与显微分析,极大的简化了硅基上微结构的放大与显微工序,提高了生产效率。 | ||
搜索关键词: | 利用 反射 效应 成像 微结构 放大 装置 | ||
【主权项】:
一种利用反射泰铂效应成像的微结构放大装置,包括光源(1),其特征在于:在光源(1)的射出光路上设有汇聚透镜(2),在汇聚透镜(2)的射出光路上设有可相互切换的定标光路及放大光路,在光路修整结构的射出光路上设有样品放置台(6),在反射光路上设有反射泰铂像屏(7)。
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