[实用新型]气体处理容器用整流装置

摘要

本实用新型提供气体处理容器用整流装置，不必利用弯曲管道暂时向上方迂回，也能将下方送来的气体在容器入口充分整流并导向容器内的下方。其包括：气体导入流路(16)，将斜下方供给的气体转向水平方向并送入气体导入口(15)；迂回空间(17)，形成于气体通路(13)的上端部且使气体导入口(15)从侧方连通；台阶部(18b)和倾斜导向部(18c)，设置在迂回空间(17)；水平叶片(21A～21C)，沿上下方向以多层配置于气体导入口(15)的开口面；整流格栅(22)，配置在比气体导入口(15)更低位的气体通路(13)中。台阶部(18b)包括距气体导入口(15)规定距离(Lo)且从顶壁(18)垂下的下垂壁(18d)，倾斜导向部(18c)从台阶部（18b）向下游侧下方倾斜，将气体导向下方，越低位的水平叶片(21A～21C)对气流的阻力越大。

主权项

一种气体处理容器用整流装置，在容器上形成有从容器上部向下方输送气体的气体通路，在容器的上部侧面开设有气体导入口，并且将气体从气体导入口导入容器内并进行整流，所述气体处理容器用整流装置的特征在于包括：气体导入流路，将从斜下方供给的气体转向水平方向并送入气体导入口；迂回空间，形成于气体通路的上端部，且使气体导入口从侧方连通；台阶部和倾斜导向部，设置在迂回空间；水平叶片，沿上下方向以多层配置在气体导入口的开口面上；以及整流格栅，配置在比气体导入口更低位的气体通路中，台阶部包括下垂壁，所述下垂壁距气体导入口规定距离且从顶壁垂下，倾斜导向部从台阶部向下游侧下方倾斜，将气体导向下方，越低位的水平叶片对气流的阻力越大。