[实用新型]气体处理容器用整流装置

权利要求书

1.一种气体处理容器用整流装置，在容器上形成有从容器上部向下方输送气体的气体通路，在容器的上部侧面开设有气体导入口，并且将气体从气体导入口导入容器内并进行整流，所述气体处理容器用整流装置的特征在于包括：

气体导入流路，将从斜下方供给的气体转向水平方向并送入气体导入口；

迂回空间，形成于气体通路的上端部，且使气体导入口从侧方连通；

台阶部和倾斜导向部，设置在迂回空间；

水平叶片，沿上下方向以多层配置在气体导入口的开口面上；以及

整流格栅，配置在比气体导入口更低位的气体通路中，

台阶部包括下垂壁，所述下垂壁距气体导入口规定距离且从顶壁垂下，

倾斜导向部从台阶部向下游侧下方倾斜，将气体导向下方，

越低位的水平叶片对气流的阻力越大。

2.根据权利要求1所述的气体处理容器用整流装置，其特征在于，越低位的所述水平叶片越向下游侧下方倾斜。

3.根据权利要求2所述的气体处理容器用整流装置，其特征在于，

所述水平叶片在从前端到中间的弯曲位置为止的范围上以规定的导入角倾斜，并且从弯曲位置到后端为止的范围上以规定的排出角倾斜，

排出角被设定为大于导入角。

4.根据权利要求2所述的气体处理容器用整流装置，其特征在于，

多个水平叶片中位于最上层的水平叶片不倾斜，

在顶壁与最上层的水平叶片之间形成的分离流路部的后方，所述下垂壁相对配置。