[实用新型]石墨舟有效
申请号: | 201220306990.8 | 申请日: | 2012-06-28 |
公开(公告)号: | CN202688444U | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 沈文伟 | 申请(专利权)人: | 沈文伟 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 常州市夏成专利事务所(普通合伙) 32233 | 代理人: | 沈兵 |
地址: | 213000 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种PECVD设备的技术领域,尤其是一种石墨舟。其包括舟体、石墨片、插孔、硅片放置区和陶瓷棒,舟体上设有石墨片,石墨片上设有插孔和硅片放置区,插孔内设有陶瓷棒,硅片放置区为镂空型。这种石墨舟结构简单、紧凑并且合理,装配方便快捷,连接可靠,提高了使用的安全性,镀膜沉积快,提高了生产效率,同时提高了镀膜的质量,大大提高了石墨舟工作的可靠性,易于使用推广。 | ||
搜索关键词: | 石墨 | ||
【主权项】:
一种石墨舟,包括舟体(1)、石墨片(2)、插孔(3)、硅片放置区(4)和陶瓷棒(5),其特征是,舟体(1)上设有石墨片(2),石墨片(2)上设有插孔(3)和硅片放置区(4),插孔(3)内设有陶瓷棒(5)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的