[实用新型]板式PECVD下料位快速散热及除尘装置有效
| 申请号： | 201220252441.7 | 申请日： | 2012-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN202558932U | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 马祖兵;朱钰;张志强;应凯 | 申请（专利权）人： | 浙江光普太阳能科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/34;B08B5/02 |
| 代理公司： | 杭州华鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 33217 | 代理人： | 胡根良 |
| 地址： | 313100 浙江省湖*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种板式PECVD下料位快速散热及除尘装置，在下料位的缓冲台上安装有风扇向镀膜后的硅片吹风来快速散热及去除硅片上表面氮化硅粉尘。本实用新型在下料位的缓冲台上安装有风扇向镀膜后的硅片吹风来快速散热及去除硅片上表面氮化硅粉尘，其中每组风扇的个数及水平方向与石墨框承载的硅片一一对应，以实现均匀充分散热及全面清除粉尘；而与缓冲台平面呈30左右的角度，则能够完全清除粉尘。 | ||
| 搜索关键词： | 板式 pecvd 下料位 快速 散热 除尘 装置 | ||
【主权项】：
板式PECVD下料位快速散热及除尘装置，其特征在于：在下料位的缓冲台（1）上安装有风扇（2）向镀膜后的硅片吹风来快速散热及去除硅片上表面氮化硅粉尘。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
