[实用新型]掩膜版的晾干装置有效
| 申请号： | 201220106383.7 | 申请日： | 2012-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN202494861U | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 侯广杰;游定平 | 申请（专利权）人： | 深圳市龙图光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 深圳市中原力和专利商标事务所(普通合伙) 44289 | 代理人： | 王英鸿 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种掩膜版的清洗干燥装置，包括：设置在该晾干装置上方用于从上往下送风的FFU（FanFilterUnits，风机滤器机组）机组、设置在FFU机组出风口上用于调整风速风向参数的整流罩和设置在该晾干装置内可使掩膜版倾斜摆放在其上的晾干架。本实用新型所述掩膜版的晾干装置，通过在FFU风机组出风口上设置用于调整风速风向参数的整流罩和在该晾干装置内设置可使掩膜版倾斜摆放在其上的晾干架，使得掩膜版经过这样的晾干装置晾干后掩膜版表面净化度达到顾客使用要求。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 晾干 装置 | ||
【主权项】：
一种掩膜版的晾干装置，其特征在于，包括：设置在该晾干装置上方用于从上往下送风的FFU机组、设置在FFU机组出风口上用于调整风速风向参数的整流罩和设置在该晾干装置内可使掩膜版倾斜摆放在其上的晾干架。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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