[发明专利]一种晶体管、晶体管的散热结构以及晶体管的生产方法有效

专利信息
申请号: 201210592156.4 申请日: 2012-12-19
公开(公告)号: CN103887339B 公开(公告)日: 2019-02-05
发明(设计)人: 王大朋;赵志勇;曾武;穆学禄;宗柏青;崔亦军 申请(专利权)人: 中兴通讯股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L23/38;H01L21/336
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 解婷婷;龙洪
地址: 518057 广东省深圳市南山区高*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种晶体管、晶体管的散热结构以及晶体管的生产方法。本发明公开一种晶体管,包括:半导体生长基底和半导体热电效应装置,半导体热电效应装置包含半导体化合物层、金属层、导热层、热电偶导热装置和散热层,半导体化合物层生长在半导体生长基底上,金属层生长在半导体化合物层上,导热层生长在金属层上,热电偶导热装置生长在导热层上,散热层生长在与导热层相对的热电偶导热装置的另一面上,热电偶导热装置还包含供电臂,供电臂生长在导热层上,与热电偶导热装置电连接。综上所述,本发明能够将晶体管的热快速导出并散发出去,能够显著的提高功放管及其周围器件的可靠性,对高温下功放的性能指标也会有很大改善,同时能提升设备的使用寿命,提高竞争力。
搜索关键词: 一种 晶体管 散热 结构 以及 生产 方法
【主权项】:
1.一种晶体管,包括:半导体生长基底和半导体热电效应装置,所述半导体热电效应装置包含半导体化合物层(2)、金属层(3)、导热层(4)、热电偶导热装置和散热层(9),所述半导体化合物层(2)生长在所述半导体生长基底上,所述金属层(3)生长在所述半导体化合物层(2)上,所述导热层(4)生长在所述金属层(3)上,所述热电偶导热装置生长在所述导热层(4)上,所述散热层(9)生长在与所述导热层(4)相对的所述热电偶导热装置的另一面上,所述热电偶导热装置还包含供电臂(5),所述供电臂(5)生长在所述导热层(4)上,与N型热电偶和P型热电偶电连接;所述热电偶导热装置包含成组的N型热电偶和P型热电偶,在所述金属层(3)上设置有多条依次排列的沟道(11),所述沟道(11)的开口位于所述金属层(3)和所述半导体化合物层(2)结合面的相对面,所述导热层(4)生长于所述沟道(11)的底部,所述导热层(4)上沿所述沟道(11)生长多组所述N型热电偶和P型热电偶,每组中的N型热电偶和P型热电偶电连接,相邻组中的N型热电偶与P型热电偶电连接,形成N型热电偶→P型热电偶→N型热电偶的通路,所述供电臂(5)分别与每个所述沟道(11)一端的N型热电偶以及每个所述沟道(11)另一端的P型热电偶电连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中兴通讯股份有限公司,未经中兴通讯股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210592156.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top