[发明专利]一种晶体管、晶体管的散热结构以及晶体管的生产方法有效
申请号: | 201210592156.4 | 申请日: | 2012-12-19 |
公开(公告)号: | CN103887339B | 公开(公告)日: | 2019-02-05 |
发明(设计)人: | 王大朋;赵志勇;曾武;穆学禄;宗柏青;崔亦军 | 申请(专利权)人: | 中兴通讯股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L23/38;H01L21/336 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 解婷婷;龙洪 |
地址: | 518057 广东省深圳市南山区高*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种晶体管、晶体管的散热结构以及晶体管的生产方法。本发明公开一种晶体管,包括:半导体生长基底和半导体热电效应装置,半导体热电效应装置包含半导体化合物层、金属层、导热层、热电偶导热装置和散热层,半导体化合物层生长在半导体生长基底上,金属层生长在半导体化合物层上,导热层生长在金属层上,热电偶导热装置生长在导热层上,散热层生长在与导热层相对的热电偶导热装置的另一面上,热电偶导热装置还包含供电臂,供电臂生长在导热层上,与热电偶导热装置电连接。综上所述,本发明能够将晶体管的热快速导出并散发出去,能够显著的提高功放管及其周围器件的可靠性,对高温下功放的性能指标也会有很大改善,同时能提升设备的使用寿命,提高竞争力。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶体管 散热 结构 以及 生产 方法 | ||
【主权项】:
1.一种晶体管,包括:半导体生长基底和半导体热电效应装置,所述半导体热电效应装置包含半导体化合物层(2)、金属层(3)、导热层(4)、热电偶导热装置和散热层(9),所述半导体化合物层(2)生长在所述半导体生长基底上,所述金属层(3)生长在所述半导体化合物层(2)上,所述导热层(4)生长在所述金属层(3)上,所述热电偶导热装置生长在所述导热层(4)上,所述散热层(9)生长在与所述导热层(4)相对的所述热电偶导热装置的另一面上,所述热电偶导热装置还包含供电臂(5),所述供电臂(5)生长在所述导热层(4)上,与N型热电偶和P型热电偶电连接;所述热电偶导热装置包含成组的N型热电偶和P型热电偶,在所述金属层(3)上设置有多条依次排列的沟道(11),所述沟道(11)的开口位于所述金属层(3)和所述半导体化合物层(2)结合面的相对面,所述导热层(4)生长于所述沟道(11)的底部,所述导热层(4)上沿所述沟道(11)生长多组所述N型热电偶和P型热电偶,每组中的N型热电偶和P型热电偶电连接,相邻组中的N型热电偶与P型热电偶电连接,形成N型热电偶→P型热电偶→N型热电偶的通路,所述供电臂(5)分别与每个所述沟道(11)一端的N型热电偶以及每个所述沟道(11)另一端的P型热电偶电连接。
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