[发明专利]用于制造半导体器件的复合晶圆无效

专利信息
申请号: 201210545802.1 申请日: 2012-12-14
公开(公告)号: CN103165625A 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: A·康迪莫夫;J·拉姆德尼;K·斯瓦米纳坦 申请(专利权)人: 电力集成公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/762
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人: 杨勇;郑建晖
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 复合晶圆包括具有第一竖直厚度和一个顶部表面的第一衬底,所述顶部表面被制备处于用于随后的半导体材料外延沉积的状态。一个载体衬底被布置在所述第一衬底下方。所述载体衬底具有大于所述第一竖直厚度的第二竖直厚度。一间层将所述第一衬底键合至所述载体衬底。
搜索关键词: 用于 制造 半导体器件 复合
【主权项】:
一种复合晶圆,包括:第一衬底,具有第一竖直厚度和一个顶部表面,所述顶部表面被制备处于用于随后的半导体材料外延沉积的状态;一个载体衬底,布置在该第一衬底下方,该载体衬底具有大于所述第一竖直厚度的第二竖直厚度;以及一个间层,将所述第一衬底键合至所述载体衬底。
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