[发明专利]偏光片及其制备方法、3D 显示装置有效
| 申请号： | 201210539744.1 | 申请日： | 2012-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN103018814A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 黄华;舒适 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B27/26 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;安利霞 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种偏光片及其制备方法、3D显示装置，涉及3D显示技术领域。其采用现有的设备和工艺在取向层与支持层之间制作了采用现有材料的过渡层，过渡层与支持层和取向层之间的浸润性均良好，解决了取向层与支持层之间的浸润性差的问题。本发明的偏光片包括用于产生线偏振光的偏光层和位于所述偏光层一侧的支持层，在所述支持层远离所述偏光层的一侧设置有过渡层；在所述过渡层远离所述偏光层的一侧设置有取向层；在所述取向层远离所述偏光层的一侧设置有旋光层。通过以上处理，在器件结构的制作过程中，材料可以利用目前量产的材料进行，无需进行新材料的选择和开发，大大的简化了整个器件开发难度。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种偏光片，包括用于产生线偏振光的偏光层和位于所述偏光层一侧的支持层，其特征在于，还包括：在所述支持层远离所述偏光层的一侧设置有过渡层；在所述过渡层远离所述偏光层的一侧设置有取向层；在所述取向层远离所述偏光层的一侧设置有旋光层。
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