[发明专利]PMOS嵌入的低压触发用于ESD保护的SCR器件有效

专利信息
申请号: 201210523149.9 申请日: 2012-12-09
公开(公告)号: CN103094278A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 蔡小五;梁超;魏俊秀;吕川;闫明;高哲 申请(专利权)人: 辽宁大学
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/74
代理公司: 沈阳杰克知识产权代理有限公司 21207 代理人: 金春华
地址: 110136 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及一种PMOS嵌入的低压触发用于ESD保护的SCR器件。采用的技术方案是:P型衬底上设N阱,在N阱上设有第一N+注入区和第一P+注入区,第一P+注入区临近N阱和P型衬底的交界处,第一N+注入区和第一P+注入区接阳极。在P型衬底上设第三N+注入区和第二P+注入区,第三N+注入区临近N阱和P型衬底的交界处,第三N+注入区和第二P+注入区接阴极。第二N+注入区跨接在N阱和P型衬底之间;第二N+注入区作为NMOS的漏,第三N+注入区作为NMOS的源。PMOS栅接阳极,漏接NMOS的栅,源接阳极,衬底接电路的Vdd。本发明采用新型技术减小了器件的ESD触发电压。
搜索关键词: pmos 嵌入 低压 触发 用于 esd 保护 scr 器件
【主权项】:
PMOS嵌入的低压触发用于ESD保护的SCR器件,包括P型衬底(7),P型衬底(7)上设置N阱(6),其特征在于:设有PMOS(30)、第二N+注入区(40)和NMOS(5);在N阱(6)上设有第一N+注入区(1)和第一P+注入区(2),第一P+注入区(2)临近N阱(6)和P型衬底(7)的交界处,第一N+注入区(1)接阳极,第一P+注入区(2)接阳极;在P型衬底(7)上设有第三N+注入区(3)和第二P+注入区(4),第三N+注入区(3)临近N阱(6)和P型衬底(7)的交界处,第三N+注入区(3)接阴极,第二P+注入区(4)接阴极;第二N+注入区(40)跨接在N阱(6)和P型衬底(7)之间;第二N+注入区(40)作为NMOS(5)的漏,第三N+注入区(3)作为NMOS(5)的源;PMOS(30)栅接阳极,漏接NMOS(5)的栅,源接阳极,衬底接电路的Vdd。
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