[发明专利]一种背钝化电池的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210520388.9 申请日: 2012-12-07
公开(公告)号: CN103050573A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 刘亚;郭志球;苏旭平;王建华;涂浩;彭浩平;吴长军 申请(专利权)人: 常州大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 南京知识律师事务所 32207 代理人: 卢亚丽
地址: 213164 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种背钝化电池的制备方法,属于太阳能电池生产方法技术领域。其工艺步骤为:先将P型单晶硅片清洗制绒;再进行P扩散;然后用腐蚀溶液将硅片背面腐蚀抛光;再分别用HF溶液清洗硅片正面,按RCA方法清洗硅片背面;接着在电池背面按顺序沉积非晶硅,氧化铝以及氮化硅,在硅片正面沉积氮化硅;利用激光或者腐蚀浆料在硅片背面将沉积的薄膜层局部去除;最后印刷电极并烧结。本发明的有益效果是:电池片采用背面叠层钝化,尤其是采用非晶硅,氧化铝和氮化硅叠层钝化,使电池背面不仅具有良好的电学钝化效果,而且对长波段具有良好的内反射效果,电池的长波段具有良好的光谱响应,太阳光的利用率和电池光电转换效率得到了提升。
搜索关键词: 一种 钝化 电池 制备 方法
【主权项】:
一种背钝化电池的制备方法,其具体步骤为:1)将电阻掺杂浓度为0.2Ω•cm至10Ω•cm的P型单晶硅片,经过常规清洗后进行酸制绒或者碱制绒;2)将制绒后的硅片进行P扩散,扩散温度为800℃至900℃,方阻为40Ω/cm至120Ω/cm;3)利用酸腐蚀溶液或者碱腐蚀溶液将硅片背面腐蚀并进行抛光;4)用1%至15%的HF溶液清洗硅片1至8分钟,去除正面的磷硅玻璃,用主要成分为H2O2和NH3.H2O的混合溶液清洗硅片背面,温度为50℃至90℃;5)硅片背面沉积非晶硅、氧化铝和氮化硅叠层薄膜,薄膜厚度为10nm至150nm;在硅片正面沉积氮化硅薄膜,厚度为50nm至100nm;6)利用激光局部去除硅片背面沉积的薄膜层,形成若干薄膜开孔;7)用1%至15%的HF溶液清洗硅片背面1至8分钟,去除背面的激光损伤层;8)在电池背面和正面印刷电极,烧结,烧结温度为400℃至800℃。
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