[发明专利]一种β-SiC纳米线的合成方法无效

专利信息
申请号: 201210516420.6 申请日: 2012-12-05
公开(公告)号: CN102976324A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 王志江;矫金福;徐用军;姜兆华 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: C01B31/36 分类号: C01B31/36;B82Y30/00
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 韩末洙
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种β-SiC纳米线的合成方法,它涉及一种SiC纳米材料的合成方法。它要解决现有合成SiC纳米线方法需要高温、产物纯度低以及对设备要求高的问题。合成方法:一、按质量百分数比将硅粉、SiO2粉体和碳纳米管粉体均匀混合,放入管式炉里置于氩气中1200~1500℃的温度进行烧结,得到初级产物;二、将初级产物放入加热设备中,在300~700℃下保温去碳,放入氢氟酸中处理,经减压过滤后用水和乙醇洗涤,干燥后得到β-SiC纳米线。采用本发明合成方法得到的产品纯度高,可控性好,烧结温度较低,无需经过减压处理,对设备要求低。本发明主要应用于SiC纳米材料的合成。
搜索关键词: 一种 sic 纳米 合成 方法
【主权项】:
一种β‑SiC纳米线的合成方法,其特征在于β‑SiC纳米线的合成方法按下列步骤实现:一、按质量百分数比将15%~40%的硅粉、25%~65%的SiO2粉体和15%~55%的碳纳米管粉体均匀混合得到混合粉体,然后将混合粉体放入管式炉中置于氩气氛以1200~1500℃的温度烧结,保温1~8h,得到初级产物;二、将步骤一得到的初级产物放入加热设备中,在300~700℃的烧结温度下保温2~10h去碳,然后放入质量浓度为30%~50%的氢氟酸中处理1~12h,经减压过滤后分别用水和乙醇洗涤2~4次,再在70~90℃下干燥2~3h,得到β‑SiC纳米线;其中步骤一所述的硅粉细度为100~300目,SiO2粉体的粒径小于80nm,碳纳米管的直径为20~40nm,长度为5~15um;步骤一中所述的氩气氛中氩气纯度大于99.99%。
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