[发明专利]一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法有效
| 申请号： | 201210507272.1 | 申请日： | 2012-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN103014616A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 焦宏飞;王利;鲍刚华;程鑫彬;马彬;王占山 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/30 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 张磊 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对减反射激光薄膜中引起损伤发生的关键因素——基板表面及亚表面处的纳米吸收中心，在薄膜制备前，采用高能离子束对基板进行轰击刻蚀处理，此方法既可以克服传统机械式抛光引起的抛光液残留问题，又可以避免化学方式刻蚀引起基板划痕或裂纹被放大引起酸残留或抛光液团聚现象发生。同时刻蚀深度和表面粗糙度可以精确控制，非常高效地降低了纳米吸收中心的密度，大大提高了减反射薄膜的激光损伤阈值，而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 减反射膜 激光 损伤 阈值 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法，其特征在于具体步骤如下：(1)将基板清洗干净，采用高纯氮气吹干后放入镀膜机；(2)控制镀膜机内真空室的本底真空度为1×10‑3Pa～6×10‑3Pa；(3)镀膜开始前，先用离子源对基板表面进行轰击刻蚀，时间为50‑70分钟，离子源发射的是氩离子和氧离子，控制氧气流量为30～50sccm，氩气流量为5～40sccm，电压为200V～1200V，电流为200mA～1100mA；(4)将基板加热至140‑155度，并恒温70‑90分钟后采用电子束蒸发方式镀制减反射薄膜；(5)待真空室冷却至室温后取出镀制好的样品。
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