[发明专利]一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法有效
| 申请号： | 201210507272.1 | 申请日： | 2012-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN103014616A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 焦宏飞;王利;鲍刚华;程鑫彬;马彬;王占山 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/30 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 张磊 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 减反射膜 激光 损伤 阈值 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法，其特征在于具体步骤如下：
(1)将基板清洗干净，采用高纯氮气吹干后放入镀膜机；
(2)控制镀膜机内真空室的本底真空度为1×10-3Pa～6×10-3Pa；
(3)镀膜开始前，先用离子源对基板表面进行轰击刻蚀，时间为50-70分钟，离子源发射的是氩离子和氧离子，控制氧气流量为30～50sccm，氩气流量为5～40sccm，电压为200V～1200V，电流为200mA～1100mA；
(4)将基板加热至140-155度，并恒温70-90分钟后采用电子束蒸发方式镀制减反射薄膜；
(5)待真空室冷却至室温后取出镀制好的样品。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于镀膜开始前对基板用离子源进行轰击刻蚀时，控制氧气流量为40sccm，氩气流量为30sccm，电压为1100V，电流为1000mA。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述的基板采用光学玻璃或晶体。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于所使用的镀制减反射薄膜采用物理方法或采用化学方法。
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