[发明专利]一种制备铟靶材金属薄膜的方法有效
| 申请号： | 201210497497.3 | 申请日： | 2012-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN102925868A | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 黄信二 | 申请（专利权）人： | 研创应用材料（赣州）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06;H01L31/18 |
| 代理公司： | 江西省专利事务所 36100 | 代理人： | 杨志宇 |
| 地址： | 341000 江西省赣州*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制备铟靶材金属薄膜的方法，添加一种或几种熔点高于铟的金属固溶或合金化于铟金属，改变了铟的物性而提高铟本身在物理气象的沉积方法，大大降低了前趋物金属薄膜的表面粗度，使其在硒化与硫化过程中可以降低吸收层的表面粗度，使制得吸收层成分均一，满足了生产的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 铟靶材 金属 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
一种制备铟靶材金属薄膜的方法，其特征为：将铟金属中添加原子百分比为2‑10% 的铜做成溅镀制程用的直径3寸的靶材，把所需镀着玻璃基材放入溅镀腔体中，以真空抽气系统将溅镀腔体背景压力抽至0.7×10‑5‑0.9×10‑5 torr后，利用氩气当作工作气体，透过节流阀将通入氩气控制溅镀腔体的工作压力为1×10‑2torr，以直流功率100瓦进行60分钟的溅镀制程，制得平坦化铟金属薄膜。
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