[发明专利]包含多酰胺组分的光致抗蚀剂无效

专利信息
申请号: 201210478565.1 申请日: 2012-09-10
公开(公告)号: CN102998904A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: G·P·普罗科普维茨;G·珀勒斯;刘聪;C·吴;C-B·徐;吴俊锡 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料有限公司
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039;G03F7/038;G03F7/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈哲锋
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 包含多酰胺组分的光致抗蚀剂。提供了一种光致抗蚀剂组合物,所述组合物包括:(a)一种或多种树脂;(b)一种或多种光致产酸剂化合物;和(c)一种或多种下式所示的多酰胺化合物:其中R1、R2、R3和R4独立选自H、(C1-C30)烷基、和酰胺取代(C1-C30)烷基;R1和R2,或R1和R3或R3和R4可与连接其上的原子一起形成5到12元杂环;和L是在羰基之间提供3到8个原子间隔的连接基团;其中多酰胺化合物没有羟基。
搜索关键词: 包含 多酰胺 组分 光致抗蚀剂
【主权项】:
1.一种光致抗蚀剂组合物,所述组合物包括:(a)一种或多种树脂;(b)一种或多种光致产酸剂化合物;和(c)一种或多种下式所示的多酰胺化合物:其中R1、R2、R3和R4独立选自H、(C1-C30)烷基、和酰胺取代(C1-C30)烷基;R1和R2,或R1和R3或R3和R4可与连接其上的原子一起形成5到12元杂环;和L是在羰基之间提供3到8个原子间隔的连接基团;其中多酰胺化合物没有羟基。
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