[发明专利]包含多酰胺组分的光致抗蚀剂

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：

(a)一种或多种树脂；

(b)一种或多种光致产酸剂化合物；和

(c)一种或多种下式所示的多酰胺化合物：

其中R¹、R²、R³和R⁴独立选自H、(C₁-C₃₀)烷基、和酰胺取代(C₁-C₃₀)烷基；R¹和R²，或R¹和R³或R³和R⁴可与连接其上的原子一起形成5到12元杂环；和L是在羰基之间提供3到8个原子间隔的连接基团；其中多酰胺化合物没有羟基。

2.根据权利要求1所述光致抗蚀剂组合物，其中所述一种或多种多酰胺化合物是非聚合的。

3.根据权利要求1所述光致抗蚀剂组合物，其中所述一种或多种多酰胺化合物是聚合的。

4.根据权利要求1所述光致抗蚀剂组合物，其中R¹、R²、R³和R⁴独立选自氢、(C₁-C₁₀)烷基和酰胺取代(C₁-C₁₀)烷基。

5.根据权利要求1所述光致抗蚀剂组合物，其中L选自(C₃-C₁₂)亚烷基、((C₁-C₆)亚烷基-O)_n(C₁-C₆)亚烷基和6到8元杂环；其中n＝1-5。

6.根据权利要求5所述光致抗蚀剂组合物，其中L选自(C₃-C₁₂)亚烷基。　

7.根据权利要求1所述光致抗蚀剂组合物，其中所述R¹-R⁴的(C₁-C₃₀)烷基和酰胺取代C₁-C₃₀烷基，和L的(C₃-C₁₂)亚烷基、((C₁-C₆)亚烷基-O)_n(C₁-C₆)亚烷基和6到8元杂环被一个或多个选自羧基、羧基(C₁-C₃₀)烷基、(C₁-C₃₀)烷氧基、磺酰基、磺酸、磺酸酯、氰基、卤素和酮中的取代基所取代。　

8.根据权利要求1所述光致抗蚀剂组合物，其中所述一个或多个多酰胺化合物选自N，N，N′，N′-四丁基己二酰二胺；N，N′-二丁基-N，N′-二甲基癸二酰胺；顺-N，N，N′，N′-四丁基环己烷-1，4-二甲酰胺；和反-N，N，N′，N′-四丁基环己烷-1，4-二甲酰胺。

9.一种形成光致抗蚀剂浮雕图案的方法，包括：

(a)将权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物涂层涂覆到基底上；

(b)将光致抗蚀剂涂层曝光于图案化激活辐射并将曝光后的光致抗蚀剂层显影得到浮雕图案。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述光致抗蚀剂涂层是浸没曝光的。