[发明专利]光电编码器的刻度盘及其制造方法有效
申请号: | 201210477727.X | 申请日: | 2012-11-21 |
公开(公告)号: | CN103134531B | 公开(公告)日: | 2017-10-27 |
发明(设计)人: | 青木敏彦;前田不二雄;富樫理彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社三丰 |
主分类号: | G01D5/347 | 分类号: | G01D5/347 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人: | 刘新宇,张会华 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 光电编码器的刻度盘及其制造方法。该光电编码器的刻度盘包括导电的且具有光反射面的基部构件和在基部构件上以预定间距排列的光吸收性黑色光栅。 | ||
搜索关键词: | 光电 编码器 刻度盘 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种光电编码器的刻度盘,所述刻度盘包括:基部构件,所述基部构件具有表面且所述表面的整个区域粗糙化;和金属光栅,所述金属光栅通过镀敷形成于所述基部构件的粗糙化了的表面并且在所述基部构件上以预定间距排列,其中所述金属光栅由已黑化的金属膜制成;和所述基部构件的表面的整个区域被粗糙化增加了所述金属光栅相对于所述基部构件的附着性。
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