[发明专利]利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜无效

专利信息
申请号: 201210442464.9 申请日: 2012-11-08
公开(公告)号: CN103805943A 公开(公告)日: 2014-05-21
发明(设计)人: 吉姆·迪贝提斯塔 申请(专利权)人: 大永真空科技股份有限公司
主分类号: C23C14/12 分类号: C23C14/12;C23C14/58
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明揭露一种利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜,包含有:一高分子膜基材;一有机黏结层,是形成于该膜基材的一表面,该黏结层具有介于大约0.25μm及20μm之间的厚度;以及一有机智能型披覆层,是形成于该黏结层的一表面,该智能型披覆层具有介于大约0.25μm及20μm之间的厚度。
搜索关键词: 利用 混合 多层 真空 沉积 进行 固化 薄膜
【主权项】:
一种利用混合多层真空沉积法进行披覆薄膜的沉积及固化的披覆薄膜,包括:一高分子膜基材;一有机黏结层,形成于该膜基材的一表面,该黏结层具有介于0.25μm及20μm之间的厚度;以及一有机智能型披覆层,形成于该黏结层的一表面,该智能型披覆层具有介于0.25μm及20μm之间的厚度。
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