[发明专利]用于在多个工件和一个工件上沉积无氢四面体非晶碳层的装置和方法在审
申请号: | 201210428774.5 | 申请日: | 2012-10-31 |
公开(公告)号: | CN103088292A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 弗兰克·帕帕;罗埃尔·蒂特曼;伊万·科列夫;吕德·雅各布斯 | 申请(专利权)人: | 豪泽尔涂层技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/35 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 李丙林;张英 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及用于在多个工件和一个工件上沉积无氢四面体非晶碳层的装置和方法,该装置包括至少下列部件:a)真空室,其可连接到一种惰性气体源和一真空泵,b)用于一个或多个基底(工件)的支撑装置,其被插入或可插入该真空室,c)至少一个具有相应的磁体排列的石墨阴极形成磁控管,该石墨阴极用作碳材料源,d)用于向位于该支撑装置上的一个或多个基底施加负偏置电压的偏压电源,e)至少一个用于该阴极或每个阴极的阴极电源,其可连接到至少一个石墨阴极和相应的阳极,将其设计用来传输间隔于(优选可编程的)时间间隔处的高功率脉冲序列,每个高功率脉冲序列包含一系列适合被提供的高频DC脉冲,可选在形成期之后连接到至少一个石墨阴极。 | ||
搜索关键词: | 用于 工件 一个 沉积 四面体 非晶碳层 装置 方法 | ||
【主权项】:
用于在金属或陶瓷材料的基底(工件)上制造至少基本无氢的四面体非晶碳层的装置,其特征在于,所述装置包括至少下列部件:a)真空室,其可连接到一种惰性气体源和一真空泵,b)用于一个或多个基底(工件)的支撑装置,其被插入或可插入所述真空室,c)至少一个具有相应的磁体排列的石墨阴极形成磁控管,所述石墨阴极用作碳材料源,d)用于向位于所述支撑装置上的所述一个或多个基底施加负偏置电压的偏压电源,e)至少一个用于所述阴极或每个阴极的阴极电源,其可连接到至少一个石墨阴极和相应的阳极,其被设计用来传输间隔于(优选可编程的)时间间隔处的高功率脉冲序列,伴随包括一系列适合被提供的高频DC脉冲的每个高功率脉冲序列,可选地在形成期之后连接到所述至少一个石墨阴极,其具有峰值功率范围为100kW至高于2MW的所述高频DC功率脉冲,并且其脉冲重复频率在1Hz至350kHz的范围,优选在1Hz至2kHz的范围,尤其在1Hz至1.5kHz的范围,特别是约10至30Hz。
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