[发明专利]用于等离子体处理腔室的静电夹盘组件及制造方法有效
| 申请号： | 201210421961.0 | 申请日： | 2012-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN103794445A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | 贺小明;倪图强 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20;H01L21/683;H01J37/32;C23C16/458;H01J9/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于等离子体处理腔室中的静电夹盘的增强型涂层。所述增强型涂层利用等离子体增强型物理气相沉积制成。所述涂层通常是Y2O3/Al2O3，也可以是其他材料的组合。并且，它可以是多层涂层，以使得一中间涂层利用标准等离子体喷涂形成，一顶层涂层用PEPVD方式形成。整个静电夹盘组件可由涂层“封装”而成。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 处理 静电 组件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于等离子体处理腔室的静电夹盘组件，其中，包括：基体：设置于所述基体之上的绝缘层；设置于所述绝缘层之上的电极；以及，由Y2O3/Al2O3或者YF3/Al2O3的混合物组成的增强型涂层，所述增强型涂层覆盖了所述静电夹盘组件，除了所述基体的背面的部分。
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