[发明专利]光罩、TFT玻璃基板及其制造方法无效
| 申请号： | 201210395055.8 | 申请日： | 2012-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN102929097A | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 林沛;郑华;吴良东;陈上潘;潘龙;高攀;林明文;陈世烽 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/48 | 分类号： | G03F1/48;G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 何青瓦 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明新区公*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光罩，用于TFT基板制造的曝光步骤中部分地阻挡紫外线，包括面板图形形成区和附加图形形成区，面板图形形成区用于形成面板图形；附加图形形成区设于面板图形形成区边缘，用于在面板图形边缘形成附加图形。本发明还公开了一种TFT基板及其制造方法。本发明通过曝光步骤中在面板图形边缘增设附加图形，可保证面板图形边缘处的微结构特征与面板图形中间处的微结构特征具有良好的均一性。 | ||
| 搜索关键词： | tft 玻璃 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光罩，用于TFT基板制造的曝光步骤中部分地阻挡紫外线，其特征在于，包括：面板图形形成区，用于形成面板图形；及附加图形形成区，设于所述面板图形形成区边缘，用于在所述面板图形边缘形成附加图形。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
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