[发明专利]正性操作的可光成像的底部抗反射涂层有效
| 申请号： | 201210393108.2 | 申请日： | 2005-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN102879999A | 公开（公告）日： | 2013-01-16 |
| 发明（设计）人： | 隋郁;吴恒鹏;康文兵;M·O·那斯尔;片山朋英;S·S·丁-李;菱田有高;J·E·欧博兰德;M·A·托克西 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料美国公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/09;G03F7/039 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及正性操作的可光成像的底部抗反射涂层。正性底部可光成像的抗反射涂料组合物能在含水碱性显影剂内显影，其中该抗反射涂料组合物包括含至少一种带生色团的重复单元和一种带羟基和/或羧基的重复单元的聚合物，乙烯基醚封端的交联剂，和任选地光致产酸剂和/或酸和/或热致产酸剂。本发明进一步涉及使用这种组合物的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 操作 成像 底部 反射 涂层 | ||
【主权项】：
形成正像的方法，该方法包括：a)在基底上形成底部可光成像的抗反射涂料组合物的涂层，所述抗反射涂料组合物能在含水碱性显影剂内显影，其中该抗反射涂料组合物包括至少含生色团基团和至少含羟基和/或羧基的聚合物，乙烯基醚封端的交联剂，和任选地光致产酸剂，而且所述生色团包括取代和未取代的蒽基；b)烘烤该抗反射涂层；c)在底部涂层上提供顶部光致抗蚀剂层的涂层；d)将光致抗蚀剂层和底部涂层按图像样式曝光于相同波长的光化辐射下；e)曝光后烘烤在基底上的光致抗蚀剂层和底部涂层；和f)采用含水碱性溶液，使光致抗蚀剂层和底部涂层显影，从而在光致抗蚀剂层和底部涂层中形成图案。
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