[发明专利]厚膜电阻阻值控制方法有效

专利信息
申请号: 201210377112.X 申请日: 2012-10-08
公开(公告)号: CN102915818A 公开(公告)日: 2013-02-06
发明(设计)人: 尤广为;邹建安;符宏大;鲍秀峰 申请(专利权)人: 华东光电集成器件研究所
主分类号: H01C17/065 分类号: H01C17/065;H01L21/70
代理公司: 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 代理人: 杨晋弘
地址: 233042 安徽*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种厚膜电阻阻值控制方法,包括以下步骤:(1)、当厚膜电阻版图设计长度方向与刮板运行方向相一致时,将厚膜电阻阻值按照设计值减小2.5%进行设计;当厚膜电阻版图设计长度方向与刮板运行方向相垂直时,将厚膜电阻阻值按照设计值增大2.5%进行设计;(2)、当周围加厚膜层厚度分别在20μm~30μm、30μm~40μm以及40μm~60μm范围时,厚膜电阻阻值按照设计值分别增大5%、10%以及15%进行设计;(3)、通过调整电阻膜厚来控制厚膜电阻阻值,按以下公式进行调整:标称方阻值/实际方阻值=实际电阻膜厚/标准电阻膜厚。本发明优点在于:一是控制住厚膜电阻一致性,保证了厚膜电阻质量;二是避免试阻样品浪费,提高了厚膜电路成膜基板加工成品率;三是节约大量试阻时间,提高了厚膜电路成膜基板生产效率。
搜索关键词: 电阻 阻值 控制 方法
【主权项】:
厚膜电阻阻值控制方法,其特征在于包括以下步骤:a、根据厚膜电阻设计方向进行阻值调整,当厚膜电阻版图设计长度方向与刮板运行方向相一致时,将厚膜电阻阻值按照设计值减小2.5%进行设计;当厚膜电阻版图设计长度方向与刮板运行方向相垂直时,将厚膜电阻阻值按照设计值增大2.5%进行设计;b、厚膜电阻周围有加厚膜层时的阻值调整,当周围加厚膜层厚度在20μm~30μm范围时,厚膜电阻阻值按照设计值增大5%进行设计;当周围加厚膜层厚度在30μm~40μm范围时,厚膜电阻阻值按照设计值增大10%进行设计;当周围加厚膜层厚度在40μm~60μm范围时,厚膜电阻阻值按照设计值增大15%进行设计。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华东光电集成器件研究所,未经华东光电集成器件研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210377112.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top