[发明专利]用于将EUVL掩模电气耦接至支撑夹盘的导电元件在审
申请号: | 201210375797.4 | 申请日: | 2012-09-27 |
公开(公告)号: | CN103105725A | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | I·克里夫玆;I·阿夫内里;Y·尤塞尔;N·本-戴维;I·霍尔克曼;I·耶尔;Y·巴松 | 申请(专利权)人: | 应用材料以色列公司 |
主分类号: | G03F1/22 | 分类号: | G03F1/22;H01L21/027 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 胡林岭 |
地址: | 以色列瑞*** | 国省代码: | 以色列;IL |
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摘要: | 一种耦接模块可包括:上部部分,所述上部部分界定孔隙;掩模接触元件;夹盘接触元件;和中间元件,所述中间元件连接于所述掩模接触元件与所述上部部分之间。孔隙的形状和尺寸可对应于极紫外(EUVL)掩模的图案转移区域的形状和尺寸。耦接模块可经成形并经确定尺寸,使得一旦掩模接触元件接触EUVL掩模的上部部分,那么夹盘接触元件接触支撑所述掩模的夹盘。当EUVL掩模定位于夹盘上时,耦接模块可在EUVL掩模的上部部分与夹盘之间进一步提供至少一个导电路径。 | ||
搜索关键词: | 用于 euvl 电气 耦接至 支撑 导电 元件 | ||
【主权项】:
一种用于将极紫外(EUVL)掩模耦接至夹盘的耦接模块,所述耦接模块包含:上部部分,所述上部部分界定孔隙;至少一个掩模接触元件;夹盘接触元件;和中间元件,所述中间元件连接于所述掩模接触元件与所述上部部分之间;其中所述孔隙的形状和尺寸对应于所述EUVL掩模的图案转移区域的形状和尺寸;其中所述耦接模块经成形并经确定尺寸,使得一旦所述至少一个掩模接触元件接触所述EUVL掩模的上部部分,那么所述夹盘接触元件接触支撑所述EUVL掩模的夹盘;和其中当所述EUVL掩模与所述耦接模块对准而定位于所述夹盘上时,所述耦接模块在所述EUVL掩模的所述上部部分与所述夹盘之间提供至少一个导电路径。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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