[实用新型]用于在远紫外光刻中将同步加速器用作源的装置有效
| 申请号： | 200920219115.4 | 申请日： | 2009-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN201540455U | 公开（公告）日： | 2010-08-04 |
| 发明（设计）人： | L·S·梅尔文三世 | 申请（专利权）人： | 新思科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/213 | 分类号： | G03F7/213;G03F7/22;H05H13/04 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;陈姗姗 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种用于在远紫外光刻(EUVL)系统将同步加速器用作源的装置，其中同步加速器的能量随着时间减少。EUVL系统可以包括步进器，其使用步进重复方式或步进扫描方式来将图案从标线片转移到晶片上。要求晶片以基本恒定的剂量曝光。在操作期间，系统可以测量同步加速器电流，并基于同步加速器电流来调整步进器的曝光持续时间或步进器的扫描速度，使得晶片以基本上恒定的剂量曝光。注意，使用同步加速器电流来控制步进器可以使得EUVL系统能够使晶片以基本上恒定的剂量曝光，而无需使用用来监控源的能量的附加设备。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 紫外 光刻 中将 同步加速器 用作 装置 | ||
【主权项】：
一种用于在远紫外光刻EUVL系统中将同步加速器用作源的装置，其特征在于：所述同步加速器的能量随着时间减少，其中所述远紫外光刻EUVL系统包括使用步进重复方式将图案从标线片转移到晶片上的步进器，其中所述步进器使用所述标线片来曝光所述晶片的区域，并在曝光了所述区域后，所述步进器将所述晶片移动到新位置，使得所述步进器可以曝光所述晶片上的另一区域，并且其中要求所述晶片的每个区域以恒定的剂量曝光，所述装置包括：测量装置，配置用于测量同步加速器电流，其中所述同步加速器包括存储循环电子的存储环，并且其中所述循环电子产生所述同步加速器电流；以及调整装置，配置用于基于所述同步加速器电流来调整所述步进器的曝光持续时间，其中所述步进器的曝光持续时间与所述同步加速器电流成反比，并且其中调整所述步进器的曝光持续时间以使得所述晶片以恒定的剂量曝光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新思科技有限公司，未经新思科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200920219115.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：柔性电路和提供到触摸传感器面板两面的电连接的系统
- 下一篇：滚筒式洗衣机
- 同类专利
- 曝光方法、曝光装置、图案形成方法及器件制造方法-201180004420.1
- 木内彻;水谷英夫 - 株式会社尼康
- 2011-02-02 - 2012-07-25 - G03F7/213
- 本发明提供曝光方法、曝光装置、图案形成方法及器件制造方法。向长条基板(SH)转印图案的曝光装置具备：使图案移动的工作台机构(MS)；投影光学系统(PL)，其将在第一部分区域(IR1)配置的第一部分图案的放大像以规定倍率投影到第一投影区域(ER1)，且将在与第一部分区域隔开规定的中心间隔的第二部分区域(IR2)配置的第二部分图案的放大像以规定倍率投影到第二投影区域(ER2)；移动机构(SC)，该移动机构(SC)以经由第一投影区域以及第二投影区域的方式使长条基板移动；以及调整机构(50)，该调整机构(50)基于规定倍率以及中心间隔，对从第一投影区域到第二投影区域的长条基板的基板长度进行调整。
- 用于在远紫外光刻中将同步加速器用作源的装置-200920219115.4
- L·S·梅尔文三世 - 新思科技有限公司
- 2009-10-13 - 2010-08-04 - G03F7/213
- 本实用新型提供一种用于在远紫外光刻(EUVL)系统将同步加速器用作源的装置，其中同步加速器的能量随着时间减少。EUVL系统可以包括步进器，其使用步进重复方式或步进扫描方式来将图案从标线片转移到晶片上。要求晶片以基本恒定的剂量曝光。在操作期间，系统可以测量同步加速器电流，并基于同步加速器电流来调整步进器的曝光持续时间或步进器的扫描速度，使得晶片以基本上恒定的剂量曝光。注意，使用同步加速器电流来控制步进器可以使得EUVL系统能够使晶片以基本上恒定的剂量曝光，而无需使用用来监控源的能量的附加设备。
- 专利分类
