[发明专利]等离子体反应腔清洗装置及其等离子体反应腔清洗方法

摘要

本发明公开了一种等离子体反应腔清洗装置，包含多个输气管，间隔的贯通等离子体反应腔壁，其延伸部分与腔壁的侧壁形成夹角；输气管上还可以设置快速调节阀，控制输入反应腔内的气体流量。一种用于上述装置的等离子体反应腔清洗方法，先通过气体喷头向反应腔内输入具有清洁能力的气体，然后通过本发明装置向反应腔内输入气体，气体电离为等离子体，继续通过本发明装置向反应腔内输入气体搅动等离子体形成涡流，等离子体涡流剧烈运动与反应腔内沉积的聚合物发生反应，清洗结束后将气体排出。本发明能够使等离子形成涡流剧烈运动，提高了等离子体与难清洁部位沉积的聚合物的反应几率，从而提高对难清洁部位沉积的聚合物的清洗能力。

主权项

一种等离子体反应腔清洗装置（1），该装置的部分结构从外向内贯通等离子体刻蚀设备的反应腔壁（2），所述等离子体刻蚀设备反应腔壁（2）包覆等离子体设备反应腔（9）内部工作空间，该腔壁（2）内设置有上电极组件（3）、下电极组件（4），上电极组件（3）包含气体喷头（32）和依次设置在气体喷头（32）周围的顶部接地环（33）、可动限制环（34），所述下电极组件（4）与等离子体刻蚀设备的射频电源相连接；其特征在于，所述的等离子体反应腔清洗装置（1）包含多个输气管(11)，多个所述的输气管(11)间隔地从外向内贯通等离子体刻蚀设备反应腔(9)的腔壁(2)，多个所述的输气管（11）的延伸部分与腔壁（2）的侧壁形成夹角；通过多个所述的输气管（11）将具有清洁能力的气体倾斜输入反应腔（9），所述气体被下电极组件（4）电离为等离子体（71），通过多个所述的输气管（11）持续输入的气体搅动等离子体（71）形成涡流，清洗反应腔（9）。