[发明专利]蚀刻剂和使用该蚀刻剂制造显示设备的方法在审
| 申请号： | 201210359316.0 | 申请日： | 2012-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN103668207A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 李昔准;权五柄;刘仁浩;张尚勋;朴英哲;李喻珍;李俊雨;金相泰;秦荣晙 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26;H01L21/3213 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 李中奎 |
| 地址： | 韩国全罗*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蚀刻剂和使用该蚀刻剂制造显示设备的方法。一种根据本发明的示例性实施方式的蚀刻剂包括：重量百分比含量为约0.5%至约20%的过硫酸盐；重量百分比含量为约0.01%至约2%的氟化合物；重量百分比含量为约1%至约10%的无机酸；重量百分比含量为约0.5%至约5%的环胺化合物；重量百分比含量为约0.1%至约5%的氯化合物；重量百分比含量为约0.05%至约3%的铜盐；重量百分比含量为约0.1%至约10%的有机酸或有机酸盐和水。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 使用 制造 显示 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种蚀刻剂，所述蚀刻剂包括：重量百分比含量为约0.5%至约20%的过硫酸盐；重量百分比含量为约0.01%至约2%的氟化合物；重量百分比含量为约1%至约10%的无机酸；重量百分比含量为约0.5%至约5%的环胺化合物；重量百分比含量为约0.1%至约5%的氯化合物；重量百分比含量为约0.05%至约3%的铜盐；重量百分比含量为约0.1%至约10%的有机酸或有机酸盐；以及水。
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