[发明专利]包埋层水阻障性的改进有效
| 申请号： | 201210328051.8 | 申请日： | 2005-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN102828164A | 公开（公告）日： | 2012-12-19 |
| 发明（设计）人： | 元泰景;S·亚达夫 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C16/34 | 分类号： | C23C16/34;C23C28/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陆勍 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种包埋层水阻障性的改进。揭示了一种用于将氮化硅材料层沉积在基板上的方法，包括：将所述基板置放在处理室中；传送由所述材料层的前驱物组成的混合物，并传送氢气至所述处理室中，以改善所述材料层的水阻障效能。控制所述基板温度至约100℃或以下的温度；在所述处理室中产生等离子体；以及沉积所述材料层于所述基板上。还揭示了一种用于沉积包括材料层和诸如非晶形碳之类的低介电常数材料层的多层的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 包埋 阻障 改进 | ||
【主权项】：
一种用于形成多层包埋膜层的方法，包括：在处理室中沉积一个或多个含硅无机层于基板上；以及在处理室中沉积一个或多个含碳层于所述一个或多个含硅层上。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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